不仅TFT-LCD液晶面板近年来持续朝高解析度化发展，三星电子最新Galaxy S-IV采用的AMOLED面板达到Full HD解析度、440 ppi（Pixel Per Inch），也为AMOLED技术立下新里程碑。市场研究机构NPD DisplaySearch认为，这显示「高解析度」已同时成为当前AMOLED和TFT-LCD面板产品之最重要规格。

然而，如何才能提高TFT-LCD面板和AMOLED面板之解析度？就生产制程来看，各有不同方式。以AMOLED面板来看，NPD DisplaySearch表示，虽然AMOLED面板结构较液晶面板简单，但其制造技术与程序却更复杂。目前只有Samsung Display制造技术最成熟，并且已建立起一定程度技术障碍门槛。

据悉，Samsung Display最主要成功关键在于其利用不断开发出OLED自发光画素排列方式、例如由Strip RGB排列方式一直到Pentile排列方式，均不断创新，再配合其FMM （Fine Metal Mask）蒸镀技术，达到AMOLED高解析度。OLED解析度透过不同画素排列方式而提高之后，接下来达到量产化的最后一关，就只剩下生产流程最佳化、以使良率提高。

根据观察，三星电子每一个世代Galaxy 智能手持装置所采用的AMOLED面板，不论是从Galaxy S 到Galaxy S-II、再到Galaxy S-III，或由Galaxy Note到Galaxy Note-II，三星都系不断的在OLED画素排列上开发出独到新技术。近来更以Galaxy S-IV的Full HD解析度、也就是440 ppi（Pixel Per Inch）超高解析度，为AMOLED显示器高解析度发展立下新里程碑。

至于TFT-LCD面板高解析度化，NPD DisplaySearch认为，要达到高解析度过程包含3大基本要素，分别是高开口率TFT画素设计（High aperture ratio TFT pixel design）、高精度生产设备（High accurate process equipment）、生产技术最佳化（Optimized the process technologies）等等。

其中，开口率方面，据分析，显示器在达到高解析度过程中，面板设计必须注意到开口率提升，例如从50%提高到70%。提升开口率时、许多设计元素亦必须变更，并且包含亮度（Brightness）、对比（Contrast Ratio）、讯号干扰（Crosstalk）、面板驱动状态不稳（Flicker）等状况也都会因为开口率变化而影响到画质。因此，厂商在提高开口率同时，也得同时在面板设计上考虑薄膜电晶体的大小（必须再缩小）、玻璃基板上电极布线必须更缩小，以及驱动芯片必须更缩小等等因素。

NPD DisplaySearch强调，平面显示器FPD市场发展趋势、正从产能扩张转向技术提升。尽管目前TFT LCD仍是平面显示市场技术主流，AMOLED生产技术尚不成熟，不过，对LCD而言，AMOLED具备更高性能，尤其应用于曲面电视等新一代设计上、AMOLED已开始展现其特点。因此，预期LCD和OLED两项显示技术未来仍将逐渐展开直接竞争。