高纯金属溅射靶材主要是指纯度为99.9%-99.999%的金属靶材，应用于电子元器件制造的物理气象沉积(PVD)工艺，是制备电子薄膜的关键材料。溅射是制备薄膜材料的主要技术之一，它利用离子源
产生的离子，在真空中经过加速聚集而形成高速度能的离子束流，轰击固体表面，离子和固体表面原子发生动能交换，使固体表面的原子离开固体并沉积在基底表面，被轰击的固体是用溅射法沉积薄膜的原材料，称为溅射靶材。
根据江丰电子的资料，该公司生产的金属溅射靶材主要有四种：铝、钛、钽、钨钛靶。除此之外，公司生产的其他产品包括铜靶、镍靶、钴靶、铬靶、陶瓷靶等溅射靶材以及金属蒸发料、LCD用碳纤维复合材料部件(主要包括碳纤维支撑、碳纤维传动轴、碳纤维叉臂)等，同时公司对外出售从客户端回收的钽靶(含钽环)和钛靶(含钛环)等，并向客户提供环件的清洗翻新服务。
目前江丰电子生产的金属靶材纯度如下所示：
在金属溅射靶材方面，江丰电子是国内行业龙头，根据该公司于8月29日发布2018年半年度报告，2018年上半年营业收入2.96亿元，同比增长18.11%；归母净利润0.25亿元，同比增长19.48%。不过全球行业龙头霍尼韦尔今年上半年营收213亿美元，其中包括溅射靶材在内的先进材料业务2018年上半年营收达到14.55亿美元。
在新一代制程工艺所用的溅射靶材方面，江丰电子今天公告称已经掌握了7nm节点工艺的金属溅射靶材的核心技术，目前正在积极与客户沟通评价事宜，不过该公司并没有提及具体详情。
江丰电子的客户包括台积电、Globalfoundries、联电、中芯国际等，不过现在7nm节点上只有台积电有量产，GF、联电都已经退出先进工艺研发，中芯国际的7nm工艺还在早期探索阶段。
此外，掌握7nm工艺用的金属靶材跟掌握7nm工艺并不一样，靶材并不影响工艺先进程度。此外，半导体行业对新产品、新技术的接纳会有很长时间的认证测试过程，江丰电子在初次打入台积电供应链时用了5-8年时间，不过现在的认证时间已经大幅缩短到1-2年。
01月07日 18:14
