7月4日消息据集微网报道,韩国产业通商资源部3日决定对半导体材料、零部件、设备研发投入6万亿韩元(约合51.2亿美元)的预算,以应对日本限制对韩出口。产业部表示,基于上月发布的制造业复兴战略,进一步细化关于材料、零部件、设备产业的投资方向。2020年起十年内对半导体材料、零部件、设备研发投入1万亿韩元的项目已完成可行性调查。至于普通材料、零部件、设备,政府正在对从2021年开始的6年内投入5万亿韩元的方案进行可行性调查。
日前,日本突然宣布,将对用于制造智能手机与电视机中OLED显示器部件使用的“氟聚酰亚胺”、半导体制造过程中必须使用的“光刻胶”和“高纯度氟化氢”等半导体的三种材料,加强面向韩国的出口管制。7月4日起正式施行。
许多韩国民众呼吁韩国进行自产,但《韩联社》报道指出,韩国与日本技术差距大,很难完全自产。
报道称,韩国半导体产业主要以生产高配置存储器半导体为主,因此只能使用更先进的材料。据国际半导体产业协会(SEMI)估算,2017年韩国半导体材料自产率为50.3%,但业界指出,今年的水平也没有提高。
虽然韩国产业通商资源部去年2月就订立目标,计划在2022年将自产率提高至70%,并在这5年期间推动2兆韩元规模的企业合作项目。但半导体产业相关人士指出,政府虽试图自产这些材料,但尚未有新进度,另一方面,韩国若要赶上日本的技术,不仅开发成本高,而且只有大企业有能力进行,即使技术开发顺利,也很难避开日本登记的专利。
另一方面,对半导体制造业来说,半导体设备更换容易,但更换材料供应商就得重新铺设生产线,若三星电子、SK海力士等企业没有大力推动的话,韩国就很难自产相关材料。
氟化聚酰亚胺是PI膜的一种,能用于折叠屏幕显示器、半导体封装、3D印刷等,日本的氟化聚酰亚胺在全球市占率高达90%。光刻胶则是应用于集成电路、半导体分立器件等的细微图形加工,日本在全球市占率也达90%。而高纯度氟化氢是半导体清洗制程中必备材料,日本在全球市占率为70%。
但韩国光刻胶、高纯度氟化氢的产量趋近于零。尤其是,在半导体铺上电路曝光工艺中,需要在硅片上涂上多层光刻胶,该核心材料目前100%来自日本。光刻胶制造业相关人士表示,由于韩国较晚开始制造光刻胶,微细工程的需求仍不高的状况下,该市场已被日本、美国所占据,因此韩国不敢大举投资该技术。另一位光刻胶制造业相关人士也指出,虽然不同公司的技术有差异,但韩国还在技术开发阶段,无法取代日本。