导言

利用METAL MASH金属网格工艺制作透明导电膜层，替代电容触摸屏或其它光电产品导电膜层这个方案，最先是基于行业对稀土金属供应量有限这个原因，被美、日、韩光电行业的研究人员所提出来的。当时是希望借助这个方案，能够利用其它成本更低、储量更丰富的金属材料，替代成本较高、产能和供应量有限的稀土金属来制作透明导电产品，应用在光电显示产品上。虽然在目前看来，稀土也不见得跟原来预计的储量那么小，METAL MASH金属网格替代方案的加工成本，也不见得比现在的稀土材料加工成本低，但作为一种可操作的实用技术，METAL MASH金属网格透明导电膜层加工工艺仍被光电行业从业人员深入研究，以期能充分利用它的优势，在不同的场景中，应用在不同领域的产品上。

在目前的电容触摸屏技术突破路径不多的情况下，处于国际光电制造中心的中（含台湾）、日、韩三方，都在积极进行相关METAL MASH金属网格工艺的研究与开发。其中走在比较前的有三星、LG、日本富士、TPK、界面、洋化、欧菲光等等。按照大家所认知的METAL MASH金属网格表现方式来讲，苹果iPhone 5以后的手机所用的In-Cell触摸显示屏，也是一种利用METAL MASH金属化合物网格工艺，来实现电容触摸功能的触摸显示屏。　

METAL MASH金属网格分类

按材料分：

金属合金类金属网格，如铜合金、铬合金、锡锌合金、银合金、金合金、钼铝钼组合合金等；

金属化合物金属网格，如氧化锌、湨化银等；　

纳米金属材料类金属网格，如纳米银丝、碳纳米管、石墨烯、纳米金属氧化物等。

按图形分：

等分矩阵形金属网格；

紊乱平铺形金属网格。

等离子压印蚀刻工艺介绍　

等离子压印蚀刻工艺，是通过精密冲压技术，使用微米级的模具转移图形到阻蚀油墨上，再用等离子蚀刻出最终的电子线路。在加工过程中，涉及到了阻蚀油墨涂覆技术、精密冲压技术、微米级模版制造技术、等离子蚀刻技术等。

等离子压印蚀刻加工技术具有快速、廉价的优点，而且它还不需要苛刻的无尘车间，甚至不需要绝对平整的表面，具有作业方法灵活多变的特点。

与等离子压印蚀刻相关的工艺技术，在一些半导体器件和光学器件领域，都有应用，是比较通用和成熟的技术系统，所涉及的设备、材料，市场都有比较充分的供应。

压印模版制作　

目前很多半导体企业，都具备了纳米光刻技术与制备工艺，能制作纳米级的纳米压印模具。

制作纳米压印模具要先通过光学或等离子光刻得到METAL MASH的图案模版。压印模具材料的化学前体在模版中固化，聚合成型后从模版中脱离，便得到了所要求的模具。常常要得到的模具是PDMS，接着，PDMS模具浸在含有硫醇的试剂中，然后将浸过试剂的模具压到镀金衬底上，衬底可以为玻璃、硅、聚合物等多种形式。

另外，在衬底上可以先镀上一薄层钛层然后再镀金，以增加粘连。硫醇与金发生反应，形成自组装单分子层SAM。印后有两种工艺对其处理。一种是采用湿法刻蚀，如在氢化物溶液中，氢化物的离子促使未被SAM层覆盖的金溶解，而由于SAM能有效地阻挡氢化物的离子，被SAM覆盖的金被保留，从而将单分子层的图案转移到金上。还可以进一步以金为掩模，对未被金覆盖的地方进行刻蚀，再次实现图案转移，另一种是在金膜上通过自组装单层的硫醇分子来链接某些有机分子，实现自组装。

而用METAL MASH金属网格工艺来制作电容触摸屏透明导电膜的微米压印模板形貌是：高度5~10微米，周期也是20~50微米，宽度是1-3微米，对于纳米光刻技术来说，制作起来完全没有难度。

触摸屏工厂所需要做的，只需把你的设计图样发给纳米光刻加工企业，然后提出你的模版形貌特征，加工企业就可以制作出精美的阻蚀油墨蚀刻图案压印模版交付给你使用了。而本文所说的等离子加工工艺，本身也是借鉴复制了纳米光刻技术的流程和工艺。

METAL MASH金属网格工艺设计图样时，因为金属材料的导电率比较高，形成的线路电阻可以做到较低，一般会同时把sensor图案和外围连接电路设计在同一层图层，方便生产加工时一次性加工出来。

组成金属网格的微米线路方式，一般附着力较弱的金属层会尽量在容许宽度内填充满线路，做到最大的图形面积，这个时候就需要在导电图形面积、产品透过率、光线干涉条纹上做出平衡。

如果是附着较强的导电浆料，则可以采用能消除干涉条纹的紊乱型微米线路。但是导电浆料的导电率相对较低，为了保证足够低的电阻，就得在图案密度和产品雾度上做出平衡。

在目前METAL MASH金属网格工艺设计图样设计中，微米线路布线方式，在光学上决定了最终产品的光学干涉条纹以及雾度。
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