2019年，台积电、三星开始量产7nm EUV工艺产品。而到2020年，5nm开始量产，EUV光刻机或许又面临一次升级。

 

　　据驱动之家报道，掌握全球唯一EUV光刻机研发、生产的荷兰ASML（阿斯麦）公司今天发布了2019年Q2季度财报，当季营收25.68亿欧元，其中净设备销售额18.51亿欧元，总计出货了41台光刻机，其中EUV光刻机7台。

 

　　在Q2季度中，ASML公司获得了10台EUV光刻机订单，而且这些订单不只是用于逻辑半导体工艺，还首次用于存储芯片——在此之前，三星表示将在未来的内存芯片生产中使用EUV光刻机，ASML的存储芯片订单应该是来自三星了。
 

　　对于EUV光刻机，目前最主要的问题还是产能不足，ASML现在出售的光刻机型号是NXE:3400B，每小时晶圆产能是150到155wph，不过Q2季度中ASML已经升级到了NXE:3400C型号，产能提升到了170wph，已经有客户做到了每天生产2000片晶圆的水平了。

 

　　根据ASML的路线图，未来EUV光刻机的产品还会再有一次提升，每小时晶圆产能最终将达到185wph，不过要等到2021到2022年了。

　　与现有的光刻机相比，第二代EUV光刻机最大的变化就是High NA（高数值孔径）透镜，而通过提升透镜规格使得新一代光刻机的微缩分辨率、套准精度两大光刻机核心指标提升70%，达到业界对几何式芯片微缩的要求。

 

　　而据之前ASML公司公布消息显示，ASML新一代EUV光刻机的量产时间是2024年，尽管最新的报道称下一代EUV光刻机2025年量产，但相比现在的EUV光刻机仅能量产7nm产品的情况下，已经是划时代的进步了。消息显示，在第二代EUV光刻机真正出现时，台积电、三星已经量产3nm工艺，甚至开始进军2nm、1nm产品阶段了。