据Digitimes引述News1 Korea报道，三星悄悄启动了引入EUV（极紫外光）光刻工艺的DRAM内存芯片研发，基于1ynm。

　　

　　报道称，三星最快在2020年开始大量投产使用EUV 1ynm制造的DRAM芯片。
 

 

　　EUV光刻目前被三星、台积电、Intel等用于7nm工艺节点上，制造的普遍是AP（应用处理器）。三星曾表示，7nm LPP工艺将在今年下半年量产，明年上半年推出首款可商用的逻辑芯片。

　　

　　结合手头掌握的资料，高通已经确认其5G基带芯片将由三星的7nm代工。