三星显示器和LG显示器正在考虑引入有关ALD（原子层沉积）技术Ø柔性OLED薄膜封装工艺。他们俩已经合作了他们的合作伙伴对设备和检验设备ALD内部。因为当使用ALD技术保护的有机材料的氧和水增加的影响，生活和灵活的OLED面板的性能可以提高整体。
据了解，三星显示器和LG显示器正在准备推出ALD技术，柔性OLED工艺。WONIKIPS，AP系统和TES对显示器ALD技术和设备。LG显示器已经完成了ALD做研究，并已开始开发引进ALD技术，柔性OLED工艺而三星显示器正在迅速引进ALD技术。
尽管两家公司都做完的ALD技术的研发，他们感到对实际引进ALD技术作为他们正在积极投资于柔性OLED设施的可能性。他们完成了在做研发，并已进入了开发阶段ALD技术商业化。
OLED，这是一种有机材料的缺点是，它是对水和氧的弱。为了保护OLED，薄膜覆盖在OLED的多次顶保护OLED水和氧气。尽管这是用于保护OLED薄膜数目是面板制造商之间不同，它们使用覆盖的OLED与有机薄膜和无机薄膜或者约3至5倍的方法。
通常PECVD（等离子体增强化学气相沉积），溅射和而Kateeva的喷墨印刷技术用于有机薄膜沉积的ALD技术，可用于无机薄膜封装。无论三星显示器和LG显示器使用PECVD技术形成无机薄膜。
一个原因是他们最近考虑引进，而不是PECVD技术ALD是因为改善生活和灵活的有机发光二极管性能的重要性已变得更大。事实上，虽然柔性OLED的需求正在提高生产率正在下降也是另一个问题。
ALD技术是CVD（化学气相沉积）中的一个。它注入原料包括的ALD金属和反应气体交替地和形式在原子水平上的薄膜。它可以把细薄膜具有高度均匀成的人具有较大的地区。如果它与MLD（分子层沉积）形成在分子水平上的有机材料的技术使用的，甚至可以在低温下形成的保护有机发光二极管从水和氧气的障碍许多层。
当它被施加到显示器的ALD技术的优势是，它可以最小化的杂质，并形成薄膜的厚度相同。由于ALD技术实现了薄膜具有较高的质量，保护有机发光二极管由水和氧气的增加效果。如果无机薄膜的厚度在不同的纳米被实现并层压替代地，总薄膜厚度和水蒸气传输速率可以被最小化。
事实ALD技术可以通过实施多种薄膜编队克服目前的CVD法的限制也被视为ALD的实力。
ALD的介绍是由于精确的工艺半导体工业中非常活跃。然而显示器行业一直犹豫不决引入ALD，因为它的成本比PECVD更多有关于应用到大面积和沉积的速度问题。然而实际引进的可能性已经上升为问题都在一个恒定的水平近期得到解决。
“虽然ALD和PECVD不能被泛化相提并论，ALD沉积的速度比PECVD大约慢10倍。”一个行业的代表说。“虽然从低沉积速度和应用低生产率到大面积是最大的障碍，实际上引入ALD技术的可能性是值得思考，如果能形成薄膜的高品质甚至更薄。”
CINNO
2016-09-26 11:16
中国电子报
10-26
阅读(4936)
行业资讯
